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标准号:GB/T 34174-2017 现 行      

中文名称:表面化学分析 工作参考物质中离子注入产生的驻留面剂量定值的推荐程序
英文名称:Surface chemical analysis. Proposed procedure for certi行ing the retained areic dose in a working reference material produced by ion implantation
中标分类:G04 ICS分类:71.040.40
标准分类编号:CN 页数:21
发布日期:2017-09-07 实施日期:2018-08-01 作废日期: - -
被替代标准: 代替标准序号:
引用标准:ISO 18115
采用标准化:ISO/TR 16268-2009,IDT
补充修订:
标引依据:国家标准公告2017年第22号
标准摘要:对表面分析用的工作参考物质(WoRM)中离子注入原子序数大于硅的分析物元素,本标准规定了对其驻留面剂量进行定值的程序。WoRM为组成均匀的、标称直径不小于50 mm的抛光(或类似磨面)基片(也称作基片),并已离子注入一种基片上不存在的某种化学元素的同位素(也称作分析物),其标称面剂量范围通常为10^16 atoms/cm^2至10^13 atoms/cm^2(即半导体技术中最感兴趣的范围)。WoRM晶片中离子注入分析物的面剂量,是通过与二级参考物质(SeRM)硅片中注入相同分析物的驻留面剂量比较而进行定值的。本标准提供了WoRM定值的概念和程序方面的信息。同时也有对参考物质要求、比较测量和实际定值的描述。离子注入、离子注入剂量术、波长色散X射线荧光光谱和无法得到SeRM时的无证替代物的补充材料见附录A到附录D。定值过程中产生的不确定度来源和数值见附录E。
 
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